儘管南韓和日本的貿易衝突日漸升溫，且有越演越烈的趨勢，但南韓三星電子仍將依照時程，9 月於日本舉辦晶圓製造論壇。市場人士表示，儘管日本管控向南韓國出口半導體材料，但藉由晶圓代工論壇舉行，三星仍希望傳達晶圓代工業務不受干擾的訊息。
據南韓媒體《BusinessKorea》報導，南韓三星 28 日宣布，2019 年三星晶圓製造論壇（SFF）日本場如期於 9 月 4 日在東京品川舉行，三星已開始接受透過網站報名。
三星將在晶圓製造論壇展示專有的奈米加工技術，並提供全面性 GAA 製程技術參考設計。三星曾表示，GAA 製程技術將用於製造 3 奈米或更低的半導體。此稱為目前 FinFET 技術進化版的生產技術，能重新設計改造晶片核心的電晶體，使其更小更快。三星指出，預計 2021 年透過這項技術推出的 3 奈米製程技術，時間點號稱比晶圓代工龍頭台積電提前一年，比英特爾提前 2~3 年，可使三星在先進製程與台積電及英特爾抗衡，甚至超越。
三星已於 5 月在美國舉辦首場晶圓製造論壇，之後 6 月在中國上海，7 月在南韓首爾，接下來 9 月東京舉行之後，10 月也將移師德國慕尼黑。7 月 4 日日本政府決定管制核心半導體原物料出口南韓之後，市場人士一直質疑三星能否按計畫舉辦活動，最後三星決定如期舉行。
市場人士認為，三星繼續維持晶圓製造論壇於日本舉行的目的，主要是向市場傳達三星晶圓製造業務不受日本控管原物料出口南韓的訊息。自 2018 年記憶體市場價格持續下跌以來，對三星半導體業務獲利造成嚴重衝擊，據三星 2019 年第 2 季財測，因記憶體跌價將衝擊三星第 2 季獲利較 2018 年同期下跌高達 56%，故發展非記憶體產品業務，尤其晶圓製造方面，更是三星看重的關鍵。
只是，晶圓製造業務容易受日本出口法規影響，三星這次決定不取消日本論壇，顯示其發展晶圓製造業務、搶台積電訂單的決心，不過目前日本限制用於 7 奈米製程 EUV 技術的光阻劑出口南韓，仍是三星亟待解決的問題。能否在光阻劑供應獲得多元化來源，以減低對日本的依賴，相信也是論壇時三星不得不面對與會者質疑的焦點。
（首圖來源：三星） | 
